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DWDM系统中均匀光纤光栅的设计

         

摘要

分析了用于DWDM系统均匀光纤光栅反射特性与光栅、光刻条件的关系 ;给出了用于DWDM系统中的光纤光栅的设计原理、方法及确定光栅参数的流程。采用高斯光束和均匀相位模版 ,用二次曝光技术 ,有效消除了均匀光纤光栅的反射谱旁瓣 。

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