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王培清; 卢建平; 陈永麒; 张斌; 洪啸吟;
清华大学;
光致诱蚀; 无显影; 气相光刻; 二氧化硅层;
机译:使用喷涂/自旋光致抗蚀剂显影方法进行激光干涉光刻,以获得一致的周期性纳米结构
机译:与超临界CO2兼容盐的极紫外光致抗蚀剂显影机理。
机译:具有双层光致抗蚀剂图案的剥离工艺,用于保形涂层超亲水脉冲等离子体化学气相沉积-SiOx在SiCx上进行芯片实验室应用
机译:无显影气相光刻技术在氮化硅刻蚀中的应用
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:芳基环氧热固性树脂的光刻性能作为微光学的阴性光致抗蚀剂
机译:无显影蒸气光刻(DFVP)的反应研究。
机译:氨基二硅烷作为甲硅烷基化剂,用于干法显影的正极性抗蚀剂,用于极紫外(13.5)微光刻
机译:气相沉积的光致抗蚀剂,及其制造和光刻系统
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