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李同伟; 琚伟伟; 汤正新; 曹万民;
河南科技大学理学院;
第一原理; Au; Si; 清洁表面; H-Si(001);
机译:在Ge / Si(001)-(2 x 8)和Ge / Si(105)-(1 x 2)表面上吸附和扩散的第一性原理研究
机译:在Ge / Si(001)-(2×8)和Ge / Si(105)-(1×2)表面上吸附和扩散的第一性原理研究
机译:清洁和原子氧吸附ZrC(001)表面的结构和电子性质的第一性原理研究
机译:AB-LNITIO在清洁Si(001)和H-Si(001)表面上Au原子的吸附和扩散研究
机译:用光电子衍射和光电子能谱研究碱金属吸附的Si(001)表面。
机译:LaNiO3(001)表面吸附H2的第一原理研究
机译:第一原理研究Ge(001)和Si(001)表面的PH3吸附
机译:二氧化甲基膦酸二甲酯在TiO2锐钛矿(001)表面吸附的第一性原理研究:形成稳定的钛氧基(Ti = O)位点
机译:用于去除体裁污渍的干洗系统,包括:(a)有效量的二氧化碳和致密化的,(0,b)001%至10%重量的化合物特定的表面活性剂以及清洁干密体裁的方法,采用上述清洁系统。
机译:包含聚合物助剂的清洁片,可改善表面上的颗粒物吸附和最小化残留物,以及用于清洁片的清洁剂
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