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梁利华; 张元祥; 刘勇; 陈雪凡;
浙江工业大学机械工程学院;
电迁移; 失效寿命; 空洞演化; 互连结构; 有限元法;
机译:在电流应力下Cu / In-48Sn / Cu焊料互连中的相偏析,界面金属间生长和电迁移引起的失效
机译:抑制使用虚拟金属的铜/多孔低k互连的电迁移早期失效
机译:测试条件和无应力温度对铜双镶嵌亚微米互连线电迁移失效的影响-通过测试结构
机译:由于应力和电迁移诱导的空隙传播,金属薄膜互连失效分析
机译:研究金属结构对镶嵌铜互连中电迁移的影响。
机译:查找高密度脑电头皮坐标的算法及其与大脑结构和功能区域的对应关系分析
机译:模拟微结构对互连电迁移引起的失效的影响
机译:铝合金窄互连中电迁移失效的微观结构机制
机译:用于形成互连结构的热处理,该互连结构具有减小的电迁移和应力迁移和/或电阻率
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