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刘峰; 孟月东; 任兆杏; 沈克明; 舒兴胜;
中科院等离子体研究所;
电感耦合等离子体; 磁控溅射; ZrN; 微结构; 纳米硬度;
机译:电感耦合射频等离子体辅助磁控溅射合成碳氧化钨薄膜的结构和力学性能
机译:电感耦合等离子体增强射频磁控溅射制备ZrN薄膜的组织,硬度和耐蚀性
机译:射频磁控溅射沉积离子辅助ZrN薄膜的物理性能研究
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)在150℃下沉积的纳米晶硅薄膜
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
机译:基板偏置电压对射频磁控溅射沉积的氮化铪膜性能的影响通过电感耦合氮等离子体辅助辅助
机译:电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICp-aEs)测定锆和钽薄膜
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积ICP-CVD设备,使用ICP-CVD设备制造没有任何掺杂工艺的P型ZnO薄膜的系统和方法以及光功率化合物半导体
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)设备,系统和方法,用于通过使用ICP-CVD设备和光功率复合半导体在没有任何掺杂过程的情况下制造p型Zno薄膜
机译:电感耦合等离子体ICP反应器中的ICP功率沉积控制
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