首页> 中文期刊> 《半导体光电》 >关于IRCCD的不均匀性及其校正技术的讨论

关于IRCCD的不均匀性及其校正技术的讨论

         

摘要

本文旨在讨论IRCCD在不同的红外成象装置中使用时的一个重要指标——不均匀性的校正技术。文中首先就一些重要的红外成象装置对不均匀性的要求作了比较之后,着重讨论了IRCCD的不均匀性产生的缘由与描述方程式。根据导出的描述式拟定了几种可能的IRCCD不均匀性的补偿方法,并附带说明了关于“死点”的定义与校正方法。

著录项

  • 来源
    《半导体光电》 |1986年第4期|40-45|共6页
  • 作者

    赤强;

  • 作者单位

    重庆光电技术研究所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号