中微交付韩国领先存储器制造商用于3D VNAND闪存工艺的先进刻蚀机

摘要

上海和旧金山2015年7月9日电／一中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布Primo SSC AD-RIE“（中微单反应台等离子体刻蚀设备）已交付韩国领先的存储器制造商。Primo SSC AD-RIE”是中微公司目前最先进的介质刻蚀设各，可用于1X纳米关键刻蚀工艺芯片加工。在此之前，中微的Primo SSC AD-RIE“已在南韩的16纳米最关键的刻蚀步骤上实现大批量生产。这台交付的设备将在客户最先进工艺的3DVNAND试生产线上投入运行。