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张宇阳; 刘二莉; 张君琦;
北京航空航天大学工业设计系;
北京;
100083;
北京贝尔科技集团;
100044;
蒙特卡洛; 参与介质; 光子映射; 相函数; 辐射估计; 光子图;
机译:历史记录:使用光子映射在直接体积渲染中启用交互式全局照明
机译:使用时间相干光子映射的交互式云渲染
机译:Dirichlet-to-Neumann映射方法研究背景电介质对金属电介质光子晶体TE偏振光子带隙的影响
机译:使用临时相干光子映射的交互式云渲染
机译:光子表面:使用无偏密度估计器稳健地渲染体积
机译:使用基于非线性映射函数的Retinex模型进行自适应图像渲染
机译:参与介质中的非弹性散射使用弯曲光子映射
机译:使用纹理映射和mipmapping渲染VLsI布局
机译:使用光子映射渲染图像时分配光子的系统和方法
机译:使用光子映射和射线追踪并提高光子映射率的图像处理装置和方法
机译:通过弛豫光子映射在计算机图形学中渲染焦散
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