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Keun Young PARK; Ho Je CHO; Tae Kwon SONG; Hang Joo KO; Bon Heun KOO;
School of Materials Science & Engineering;
Changwon National University;
Photovoltaic and Optoelectronic device center;
Korea Photonics Technology Institute;
脉冲激光沉积法(PLD); 透明导电氧化物(TCO); p型; 多层; 透射率;
机译:射频溅射制备p型透明导电SnO_2 / Al / SnO_2薄膜的光电性能
机译:退火对Al-Zn共掺杂SnO_2薄膜结构,形貌,光学和电学性质的影响
机译:退火温度对Sol-Gel SnO_2薄膜结构,形貌,光学和电学性质的影响
机译:生长过程对SnO_2纳米结构薄膜形貌和电学性能的影响
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:添加锌和真空退火时间对旋涂低成本1 at%Ga–ZnO薄膜透明导电薄膜性能的影响
机译:热退火对溶胶-凝胶法制备的Al-Ni共掺杂ZnO薄膜结构,电学和光学性能的影响
机译:采用射频溅射法制备高性能镉铟透明导电薄膜
机译:具有导电层和液晶显示装置的透明导电层光学薄膜的透明导电层的胶粘剂的水分散型胶粘剂组合物
机译:通过添加季铵烷基铵盐增强光学和电学性能的混合钙钛矿型薄膜
机译:修改碳纳米管结构以增强透明导电涂层的光学和电子性能的方法
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