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制造技术; TFT; 光刻技术; 工艺流程; 降低成本; 企业竞争; 生产能力; 工艺技术; 竞争力; LCD; 公司; LG;
机译:通过无掩膜激光刻蚀光刻技术在球面上制造的a-Si:H TFT的电稳定性
机译:通过大面积紫外线压印光刻技术制造全层印刷TFT-LCD器件
机译:氧化石墨烯均匀转移到光刻胶中:通过改进的光刻技术制造高表面积三维微阵列
机译:采用三种TFT技术制造的TFT的1 / f噪声性能:玻璃上的单晶硅,玻璃上的低温多晶硅和绝缘体上的硅
机译:用于半球成像器的a-硅:氢TFT被动像素传感器的无掩模激光刻蚀光刻技术。
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制
机译:利用光刻技术和照相光刻技术制造三维图案结构的方法
机译:通过两种光刻胶的组合光刻技术在亚微米尺度上制造复杂的三维结构的方法
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