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张定涛; 李文彬; 姚立红; 郑云友; 李伟; 袁明;
北京林业大学,北京100083;
北京京东方显示技术有限公司,北京100176;
低耗; 钼刻蚀; 阴极耦合离子; 试验设计;
机译:n〜+刻蚀工艺对Mo / Al / Mo数据线TFT-LCD制造的影响
机译:TFT-LCD的最新技术趋势大尺寸薄,高画质,省电中小尺寸高附加值
机译:Displaybank宣布2009年6月大尺寸TFT-LCD的发货量
机译:关于大尺寸和超高清TFT-LCD的低电阻总线材料及其工艺架构的看法
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:通过刻蚀停止层纳米层的清洁界面工艺增强a-IGZO TFT器件的性能
机译:用电感耦合等离子体刻蚀siO2刻蚀工艺
机译:生产测试Ip0381-a-Fp,C反应器过载工艺通道设施中的超大尺寸燃料元件的辐照
机译:基于近红外光谱仪的控制金属层刻蚀工艺并再生用于金属层刻蚀层刻蚀工艺的刻蚀剂的方法
机译:用于刻蚀表面的刻蚀工艺,尤其是金属,运动和发动机零件的刻蚀工艺,结合了电子束和热处理工艺
机译:相同方法切割大尺寸TFT-LCD面板和液晶显示器的方法
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