首页> 中文期刊> 《电子器件》 >基于场发射三极管结构的离子轰击分析

基于场发射三极管结构的离子轰击分析

         

摘要

离子轰击影响场致发射器件的稳定性和工作寿命。本文以碳纳米管场发射三极管结构为例模拟了气体-电子碰撞电离产生的正离子回轰阴极的全过程,对模型中的平面阴极受损的位置和程度进行了的分析;为了减小离子轰击的影响,在三极管中引入了第二栅极利用其离子陷阱效应,并模拟了使用第二栅极后正离子回轰阴极的全过程和阴极受损情况。模拟结果证明,加入离子陷阱结构后可以明显改善场致发射三极管的离子轰击问题。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号