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MEVVA源金属离子注入和金属等离子体浸没注入

         

摘要

MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入.它们各具长处,相互补充,共同发展.前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点,特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理,能保证处理的均匀性和高效率.后者因无视线加工限制并克服了保持剂量问题,特别适用于处理体积较大、形状复杂的工件,能保证工件所有暴露表面的加工均匀性,调整工作参数,还能进行金属膜沉积和各种沉积/注入比例的动态增强沉积金属、合金及化合物膜制备.综述上述二者的开发、工作原理、材料表面改性研究和工业应用新进展.

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