碳基材料中甲烷的热解吸(TDS)行为研究

摘要

正 碳基材料,如石墨（高纯和掺杂石墨）、碳化物（如B₄C和SiC）、以及C/C复合材料被公认是最有希望的面对等离子体壁面材料,大多数碳基材料已成功地被世界各种Tokamak装置所采用,其中以高纯石墨使用得最为普遍,然而高纯石墨也有其自身的局限性,如高化学溅射（Chemical Sputtering）、高氚滞留（Tritium Retention）和热解吸（Thermal Desorption）、以及辐射增强的升华效应（Radiation Enhanced Sublimation）,由此产生的大量碳杂质进