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a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究

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摘要

列举了不同的a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明.

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来源
《现代显示》 |2006年第8期|24-28|共5页
作者
林鸿涛; 刘伟;
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作者单位

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021;

吉林北方彩晶数码电子有限公司,吉林,长春,130033;

吉林北方彩晶数码电子有限公司,吉林,长春,130033;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类液晶显示器件;
关键词
a-Si TFT-LCD制造工艺; 电化学腐蚀; 反应机理; 氧化锡铟; 返修工艺;

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