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基于投影U-过程的多元正态分布的拟合优度检验(英文)

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摘要

给出两个新的多元正态分布检验的统计量,基于U-过程和正态分布的列维特征,利用投影寻踪方法,证明了在零假设下,所提出检验统计量具有相合性和渐进正态性.

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来源
《南开大学学报：自然科学版》 |2009年第5期|44-50|共7页
作者
陈广雷; 王兆军;
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作者单位

中国人民武装警察部队学院基础部;

南开大学数学科学学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类抽样理论、频率分布;
关键词
正态性检验; U-过程; 投影寻踪;

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