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宁兆元; 程珊华;
苏州大学物理科学与技术学院;
等离子体刻蚀; 非晶; 碳膜; 氧等离子体;
机译:类似于金刚石的碳膜的低摩擦性能和通过先进涂层工艺沉积的非晶碳膜的透氧率
机译:氧等离子体刻蚀改性石墨烯片嵌入碳膜及其摩擦学性能
机译:电子回旋共振沉积,掺氧的氢化类金刚石非晶碳膜的结构和性能
机译:用热处理改造过滤的阴极真空弧非晶碳膜非晶碳膜的电气特性
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:氧等离子体氧化非晶碳膜的工艺研究及红外光谱研究
机译:用于非晶类金刚石碳膜沉积的arF-和KrF-激光产生的碳羽流的比较诊断
机译:在可改善沉积非晶碳膜的匹配性能的凸起特征上沉积高度共形的非晶碳膜的方法
机译:非晶碳膜,非晶碳膜的制造方法以及涂覆有非晶碳膜的膜
机译:非晶碳膜,非晶碳膜的形成方法,导电构件和具有非晶碳膜的燃料电池双极板
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