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射频溅射制备的BST薄膜介电击穿研究

         

摘要

采用射频溅射制备BST薄膜,研究了薄膜的介电击穿特性.实验表明,在电压增大到传统击穿电压(电流密度出现瞬时增大时的电压)之前,薄膜性能已被破坏,发现在传统击穿状态之前存在另一个新状态--初始击穿状态.通过测试各状态的J-V(电流密度-电压)、J-T(电流密度-温度)特性分析其导电机理,建立了薄膜结构、漏电性能随电场强度增大而变化的模型.最后提出了确定实际意义上击穿电压的方法.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2006年第5期|2513-2517|共5页
  • 作者单位

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    BST薄膜; 介电击穿; 漏电流;

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