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黄永宪; 田修波; 杨士勤; Fu; Ricky; Chu; K.Paul;
哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;
深圳市复合材料重点实验室,深圳国际技术创新研究院,深圳,518057;
香港城市大学物理及材料科学系,香港九龙;
等离子体浸没离子注入; 鞘层; 粒子模型; 上升沿;
机译:等离子体浸没离子注入中的鞘层和鞘层动力学
机译:等离子体浸没离子注入过程中离子温度和气压对磁化鞘层动力学的影响
机译:负偏压脉冲对基于等离子体的离子注入制备的a-C:H薄膜特性的影响
机译:通过等离子体注入氧气和等离子体浸没离子注入进行分离,以形成绝缘体上硅。
机译:使用等离子体浸没离子注入和沉积对生物材料进行表面改性
机译:等离子体鞘层扩展的数值模拟及其在等离子体源离子注入中的应用
机译:等离子体源离子注入球形和圆柱几何形状时空鞘层演化的测量
机译:等离子体浸没离子注入装置的控制方法和偏压供给装置
机译:射频偏压引起的微波等离子体鞘层和体积的膨胀方法
机译:具有扩展阴极工艺环的等离子体浸没离子注入反应器
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