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王富朝; 唐文国; 李自元; 沈学础;
浙江农业大学基础一部;
中国科学院上海技术物理研究所;
a-SixC1-x:H; 薄膜; 退火; 发光光谱;
机译:用硬X射线光发射和光热偏转光谱法检测的GaN块和In_xGa_(1-x)N薄膜的价带边缘尾态和带隙缺陷水平
机译:退火温度和CuO对Cu_xZn_(1-x)O薄膜微结构和光学带隙的影响
机译:后退火对溶胶-凝胶制备的Mg x sub> Zn 1-x sub> O(0.0≤x≤0.3)纳米晶体薄膜带隙的影响
机译:室温薄膜Ba / sub x / Sr / sub 1-x / TiO / sub 3 / Ku带耦合微带移相器:薄膜厚度,掺杂,退火和衬底选择的影响
机译:氢化非晶硅基材料中的电子漂移迁移率测量和导带尾态(锗和碳合金的影响)。
机译:退火温度对溶胶-凝胶三氧化钨薄膜光学带隙的影响
机译:用温度相关特性分析p型一氧化锡薄膜晶体管的载流子和带尾态
机译:室温薄膜Ba(x)sr(1-x)TiO3 Ku波段耦合微带相移器:膜厚度,掺杂,退火和基板选择的影响
机译:RRAM应用中旋涂Pr(1-x)Ca(x)MnO3薄膜的高温退火
机译:Ba(1-x)SRxTiyO3薄膜的形成,能够在低温下反复进行涂层和煅烧的组合物以及Ba(1-x)SRxTiyO3薄膜的形成方法
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