新型含有砜基吲哚发色团侧基的聚硅氧烷的合成与非线性光学性能研究

摘要

采用后功能化的方法合成了两种含有砜基吲哚二阶非线性光学发色团侧基的聚硅氧烷分子,通过核磁、红外、紫外-可见、示差扫描量热分析等手段对所得的聚合物进行了表征.此合成方法简便易行,易于产物的分离提纯,为二阶非线性光学材料的合成提供了一种新方法.通过二次谐波产生(SHG)方法测得该聚合物的二阶非线性光学系数d33值分别为21和17 pm/V.