机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超低k蚀刻工艺的相互作用
机译:在中等衬底温度下通过分子氢流从InAs(100)表面去除天然氧化物和碳污染物的化学计量和形态研究
机译:NiAl(110)表面高温氧化的X射线光电子能谱和低能电子衍射研究
机译:超低k碳掺杂氧化物表面上锰硅酸盐阻挡层生长的光发射研究
机译:I.在不导电基底的表面上涂覆导电聚合物膜。二。在二氧化碳压力下芳族醇的羧化。三,对二甲苯的低温相转移催化自氧化,用于生产对苯二甲酸。
机译:温度敏感光合作用:点突变的CEF-GPRK或PSBO充当温度控制开关用于基本光合作用过程
机译:表面脱脂表面降温的计算机对照研究:二氧化碳对脑温度的影响