State University of New York at Albany;
Compound semiconductors; Digital logics; Gaas; High-k gate stack; Ingaas; Mosfet; Semiconductor channel;
机译:具有不同高k电介质材料的闸门工程三门SOI TFET的性能研究
机译:使用晶体ZrO_2高K / AI_2O_3缓冲层栅极堆叠抑制FinFET的短沟道效应,以实现低功耗器件应用
机译:基于铪的高k电介质栅极堆叠(GS)栅极材料工程设计(GME)连接无线纳米管MOSFET用于数字应用
机译:具有高k栅极堆栈的双层双栅极连接累积模式圆柱形圆柱栅极的研究,高功率数字应用
机译:用于低功率逻辑应用的铟镓砷化物埋沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。
机译:具有纳米堆叠的高k栅极电介质和3D鳍形结构的高性能III-V MOSFET
机译:具有3-D Tri-Gate和高k /金属栅极的22nm SoC平台技术,针对超低功耗,高性能和高密度SoC应用进行了优化