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Single event latchup in a deep submicron CMOS technology.

机译:深度亚微米CMOS技术中的单事件闩锁。

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摘要

Single event latchup (SEL) has been observed on a range of different devices over the past three decades and can result in large currents on metal interconnects, resulting in long-term device reliability issues or catastrophic failure. Because of this, it is important to thoroughly screen parts for SEL vulnerability. In this dissertation, both technology computer aided design (TCAD) simulations and experimental data provide support for a variation in device vulnerability based on the lateral orientation for grazing angle ion strikes. These results show industry standard tests for single event effects (SEEs) may be inadequate for device validation and characterization.
机译:在过去的三十年中,已经在各种不同的设备上观察到单事件闩锁(SEL),它可能会在金属互连上产生大电流,从而导致长期的设备可靠性问题或灾难性故障。因此,彻底筛选部件是否存在SEL漏洞很重要。本文利用计算机辅助设计技术(TCAD)的仿真和实验数据为基于掠角离子撞击的横向取向的设备易损性变化提供了支持。这些结果表明,针对单事件影响(SEE)的行业标准测试可能不足以进行设备验证和表征。

著录项

  • 作者

    Hutson, John M.;

  • 作者单位

    Vanderbilt University.;

  • 授予单位 Vanderbilt University.;
  • 学科 Engineering Electronics and Electrical.;Physics Radiation.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 2008
  • 页码 117 p.
  • 总页数 117
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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