早稲田大学;
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机译:溅射法制备KNN基无铅强电介质薄膜及其加工工艺
机译:通过溅射法及其电学特性及电气特性评价HFO_2铁电厚膜硅基衬底上的室温膜形成
机译:溅射法研究非晶硅薄膜和超晶格薄膜的结构和光电性能
机译:8.溅射法制备氧化物超导体Y-Ba-Cu-O薄膜及其表征(九州大学理学院物理系,硕士论文/摘要(1987年),第2部分)