University of North Texas.;
机译:离子化金属等离子体沉积氮化钽薄膜在铜和二氧化硅之间的扩散阻挡性能
机译:离子化金属等离子体沉积氮化钽薄膜在铜和二氧化硅之间的扩散阻挡特性
机译:TiN阻挡层的低温MOCVD沉积用于高纵横比通过硅过孔的铜扩散的研究
机译:表征PVD-TiN作为扩散阻挡层/粘附促进剂,用于多层铜互连技术
机译:二氧化硅与用作粘附促进剂和铜在二氧化硅上金属化的扩散阻挡层的铜铝合金的相互作用的研究。
机译:蘑菇多糖纳米铜负载铜的壳聚糖和溶菌酶对LPS介导的黄羽鸡肠道屏障和免疫的影响
机译:基于钌的铜金属化阻挡层研究
机译:中间层对硅基板上超薄铜,金薄膜划痕附着性能的影响