Stanford University.;
机译:自组装单层抗蚀剂,用于HfO_(2)和ZrO_(2)高k栅极电介质的原子层沉积
机译:微接触印刷自组装十八烷基三氯硅烷单层作为掩模层的选择性区域原子层沉积
机译:通过减压化学气相沉积法在氢封端的Si(111)上制备烷基自组装单层:HF和NH_4F溶液中的化学电阻率
机译:使用N_2H_4的铜表面清洁和钝化,以及用于区域选择性原子层沉积(AS-ALD)应用的自组装单层
机译:使用自组装单层抗蚀剂在硅上选择性沉积金属氧化物
机译:电阻加热冷壁化学气相沉积合成高质量单层石墨烯
机译:致密有机硅烷单层抗蚀剂,可引导高选择性原子层沉积