机译:通过飞行时间二次离子质谱,反射吸收傅里叶变换红外光谱和高分辨率电子能量损失光谱研究聚(二甲基硅氧烷)Langmuir单层膜中的聚合物三级结构。
State University of New York at Buffalo.$bChemistry.;
机译:通过基质辅助激光解吸电离,飞行时间二次离子质谱,兆电子伏特二次质谱,气相色谱/质谱,X射线光电子能谱和衰减全反射傅立叶变换红外光谱对潜在指纹进行化学表征成像:比较
机译:聚二甲基硅氧烷Langmuir单层膜中聚合物三级结构的飞行时间二次离子质谱分析
机译:聚苯乙烯(PS)低聚物样品的聚二甲基硅氧烷(PDMS)污染:飞行时间静态次级离子质谱(TOF-SSIMS)和X射线光电子能谱(XPS)结果的比较
机译:单层膜中聚(甲基苯甲硅氧烷)三级结构的飞行时间二次离子质谱分析
机译:通过飞行时间二次离子质谱,基质辅助激光解吸质谱和X射线光电子能谱表征新型聚合物。
机译:通过傅立叶变换红外光谱和圆二色谱法比较人类I类和II类主要组织相容性复合抗原的二级结构。
机译:潜在指纹的化学表征,包括基质辅助激光解吸电离,飞行时间二次离子质谱,兆电子伏特二次质谱,气相色谱/质谱,X射线光电子能谱和衰减全反射傅里叶变换红外光谱成像:比较