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摘要
第一章 绪论
1.1 扫描电子显微镜简介
1.1.1 扫描电子显微镜的原理
1.1.2 扫描电子显微镜的发展和应用
1.2 电子与固体相互作用
1.2.1 电子非相干散射的Monte Carlo模拟方法
1.2.2 电子相干散射的量子力学方法
1.3 二次电子成像
1.3.1 二次电子产生机制的研究
1.3.2 二次电子图像分辨率和锐度研究
1.3.3 原子级分辨二次电子像
1.3.4 入射电子束形状对二次电子成像质量的影响
第二章 电子散射的Monte Carlo模拟方法
2.1 经典Monte Carlo模型
2.1.1 电子非相干散射理论
2.1.2 经典Monte Carlo模型的建立
2.1.3 样品三维复杂结构的构建
2.2 量子Monte Carlo模型
2.2.1 玻姆力学的发展
2.2.2 玻姆力学的理论基础
2.2.3 玻姆力学的应用
第三章 原子级分辨二次电子像的量子Monte Carlo模拟
3.1 背景介绍
3.2 量子Monte Carlo方法
3.2.1 玻姆量子轨迹理论
3.2.2 内壳层激发的类氢原子模型
3.2.3 沿量子轨迹激发电子的抽样
3.2.4 级联过程的传统Monte Carlo抽样
3.3 结果和讨论
3.3.1 玻姆量子轨迹
3.3.2 二次电子的产生和出射
3.3.3 原子级分辨二次电子成像模拟
3.4 本章小结
第四章 评价二次电子图像锐度测量方法的Monte Carlo模拟
4.1 背景介绍
4.2 理论模型
4.3 二次电子图像锐度测量方法
4.4 结果和讨论
4.5 本章小结
第五章 入射电子束形状对二次电子成像影响的模拟
5.1 电子光学系统
5.2 几何光学
5.3 波动光学
5.4 本章小结
第六章 介电函数对二次电子产额和能谱影响的模拟
6.1 背景介绍
6.2 MELF-GOS模型
6.3 结果与讨论
6.4 本章小结
第七章 总结
参考文献
致谢
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果