声明
摘要
第一章 绪论
1.1 量子计算简介
1.1.1 量子计算的提出
1.1.2 量子计算的要素
1.1.3 量子计算的基本架构和物理实现
1.2 半导体量子点简介
1.2.1 常相互作用模型
1.2.2 单量子点输运图像
1.2.3 双量子点的输运图像
1.2.4 不同材料的量子点的相干时间
1.3 锗硅材料简介
1.3.1 核壳型锗硅纳米线
1.3.2 自组织锗硅纳米结构
1.4 本章小结
第二章 样品加工
2.1 电子束曝光系统的使用
2.1.1 电子束光刻胶
2.1.2 样品装载
2.1.3 束流测试和基本剂量设置
2.1.4 束斑调节
2.1.5 坐标体系
2.1.6 图形设计
2.1.7 写场校准
2.1.8 任务列表设置
2.1.9 定位拍照方法
2.1.10 其它
2.2 其它仪器和操作简介
2.2.2 镀膜剥离工艺
2.2.3 原子层沉积
2.2.4 氢氟酸刻蚀
2.3 工艺流程
2.4 本章小结
第三章 平面谐振腔与石墨烯量子点复合结构
3.1 平面谐振腔与石墨烯量子点复合结构的设计
3.1.1 谐振器部分
3.1.2 差分信号产生部分
3.1.3 复合结构与测试环境
3.2 复合体系的理论模型和参数提取
3.2.1 复合体系S参数的推导
3.2.2 量子点对谐振信号的调制作用
3.2.3 体系特征参数的提取
3.2.4 参数拟合的合理性分析
3.3 复合结构的实验结果
3.3.1 石墨烯相位退相干率的测定
3.3.2 复合体系共同调制效果的实验观测
3.3.3 非局域关联的证明
3.4 本章小结
第四章 微波对石墨烯量子点的影响
4.1 实验体系和参数标定
4.1.1 测量系统介绍
4.1.2 失谐量的标定
4.2 噪声谱的测量
4.2.1 电流输运测量
4.2.2 谐振腔幅值测量
4.3 微波对石墨烯双量子点的影响
4.3.1 微波的热电流效应
4.3.2 微波对电荷噪声的影响
4.3.3 微波对电荷量子比特相干性的影响
4.4 本章小结
第五章 自组织锗硅纳米线上空穴量子点自旋态的测量
5.1 样品介绍
5.1.1 纳米线的生长
5.1.2 单量子点的结构
5.2 空穴型量子点的能级结构
5.2.1 空穴量子点的形成
5.2.2 空穴型量子点的库伦菱形图像
5.2.3 磁场下的能级劈裂情况
5.3 量子点的基本表征
5.3.1 样品的基本输运曲线
5.3.2 接触电阻对能级线宽的影响
5.4.1 塞曼分裂
5.4.2 量子点g因子的提取
5.5 本章小结
参考文献
致谢
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果