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【6h】

N极性和非极性GaN衬底上的氮化物外延生长方法及特性研究

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3.3.2 N 极性面GaN 样品HRXRD 的摇摆曲线及位错密度

5.2 展望

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著录项

  • 作者

    王学炜;

  • 作者单位

    西安电子科技大学;

  • 授予单位 西安电子科技大学;
  • 学科 软件工程
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 许晟瑞,韩红波;
  • 年度 2020
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 O64TQ6;
  • 关键词

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