具有高介电常数栅层的柔性薄膜晶体管的制备与性能研究

目录

声明

第1章 绪论

1.1 课题的研究背景与意义

1.2 国内外研究现状

1.2.1 柔性电子的研究现状

1.2.2 高介电常数材料的研究现状

1.3 论文的研究内容及结构安排

第2章 柔性薄膜晶体管的主要结构与材料

2.1 柔性薄膜晶体管的主要结构

2.2 柔性薄膜晶体管的主要材料

2.2.1 有机薄膜晶体管

2.2.2 氧化物薄膜晶体管

2.2.3 碳纳米管和石墨烯薄膜晶体管

2.2.4 硅基薄膜晶体管

2.3 本章小结

第3章基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的结构设计与制备

3.1 基于铋镁铌/氧化钛栅层柔性薄膜晶体管的光学掩膜版版图设计

3.1.1 离子注入层的版图设计

3.1.2 孔层的版图设计

3.1.3 金属电极层的版图设计

3.1.4 对准标记的设计

3.2 基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的结构设计

3.3 基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的制备过程

3.3.1 低温磁控溅射工艺

3.3.2 匀胶和光刻工艺

3.3.3 离子注入和退火工艺

3.3.4 干法和湿法刻蚀工艺

3.3.5 硅薄膜转移与真空电子束蒸镀工艺

3.4 本章小结

第4章 基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的性能表征

4.1 测试方案制定及设备选择

4.2 铋镁铌/氧化钛栅介质层的性能表征

4.3 铋镁铌/氧化钛/单晶硅薄膜异质结构的性能表征

4.4 铋镁铌/氧化钛/单晶硅薄膜异质结构的机制分析

4.5 基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的性能表征

4.5.1 柔性薄膜晶体管的工作原理

4.5.2 基于铋镁铌/氧化钛栅层的柔性薄膜晶体管的直流特性表征

4.5.3 不同器件尺寸的柔性薄膜晶体管的性能表征

4.6 本章小结

第5章 栅介质材料和尺寸以及温度对薄膜晶体管性能影响研究

5.1 基于Sentaurus软件对薄膜晶体管的建模

5.2 栅介质材料和尺寸以及温度对薄膜晶体管的性能影响分析

5.2.1 栅介质材料对薄膜晶体管的性能影响分析

5.2.2 栅介质尺寸对薄膜晶体管的性能影响分析

5.2.3 温度对薄膜晶体管的性能影响分析

5.3 本章小结

第6章 总结与展望

参考文献

发表论文和参加科研情况说明

致谢