增强聚合物真空闪络强度的低温等离子体聚合改性涂层的研究

目录

声明

1 绪论

1.1 研究背景与意义

1.2 国内外研究现状

1.2.1 聚合物真空闪络机理及影响因素

1.2.2 聚合物绝缘材料表面改性技术

1.2.3 低温等离子体及等离子体涂层制备

1.3 目前研究存在的不足

1.4 本文主要研究内容

2 涂层制备及表征方法

2.1 大气压射流等离子体聚合制备防真空闪络物理形貌优化涂层

2.1.1 制备方法

2.1.2 表征手段

2.2 辉光放电等离子体聚合制备防真空闪络化学分子结构修饰涂层

2.2.1 制备方法

2.2.2 表征手段

2.3 本章小结

3 非光滑pPMMA表面物理形貌优化涂层的效果

3.1 非光滑pPMMA涂层的物理和化学表征结果

3.1.1 SEM和AFM图像

3.1.2 FTIR结果

3.2 非光滑pPMMA涂层的电学表征结果

3.2.1 表面电位衰减

3.2.2 二次电子发射系数

3.2.3 真空闪络测试结果

3.3 讨论

3.3.1 非光滑pPMMA涂层制备时的反应过程和作用机理

3.3.2 与同类方法的比较

3.4 本章小结

4 DFHMA-pPMMA化学分子结构修饰复合涂层的效果

4.1 DFHMA-pPMMA复合涂层的化学和物理表征结果

4.1.1 FTIR和EDAX结果

4.1.2 SEM、AFM和超景深显微镜图像

4.2 DFHMA-pPMMA复合涂层的电学表征结果

4.2.1 表面电位衰减

4.2.2 闪络测试结果

4.3 讨论

4.4 本章小结

5 结论与展望

5.1 结论

5.2 课题展望

参考文献

作者简历、攻读硕士期间发表的论文及其他成果

致谢