不同光照强度、营养元素与生长调节剂对高羊茅生长的影响

摘要

本论文采用多因素及正交试验相结合的方法,研究了光照强度、肥料类型(N、K肥不同浓度配比、铵态氮与硝态氮的不同配比)、生长调节剂(多效唑、烯效唑、缩节胺和6BA)对高羊茅(FescuearuNdiNaceaShreb.)生长的影响,研究结果表明：1.高羊茅生长早期,低浓度N和高浓度K处理的地下生物量均大于高浓度N和低浓度K处理；在遮光处理下,低浓度N处理明显提高了地上生物量。在高羊茅生长后期,全光照条件下,高浓度N处理的地上生物量、地下生物量和叶绿素含量均明显高于低浓度N处理,并且高浓度K仅在高浓度N处理下对地上生物量、地下生物量和分蘖数有明显的增加作用；而在遮光处理下,高K浓度处理的地上生物量和地下生物量明显高于低K浓度处理,特别是在低浓度N条件下,高浓度K显著提高了地上生物量和叶绿素含量。2、喷施适宜浓度的多效唑、烯效唑和缩节胺均有效降低了高羊茅的株高,提高了分蘖数、地上生物量和地下生物量,而通过正交实验确定的多效唑、烯效唑和缩节胺适宜组合A2B2C2,其株高比CK降低200.0%,地上生物量、地下生物量和分蘖数分别比CK增加75.0%、461.5%和300.1%,效果明显好于3种生长调节剂单独使用。3.全光照条件下,NH4+-N：NO3--N=2：1处理的高羊茅地上生物量显著高于NH4+-N：NO3--N=1：2处理(P<；0.05),并且不同程度地增加了植株高度、叶宽、叶绿素和植株分蘖；PP333在NH4+-N：NO3--N=2：1水平下的根冠比大于NH4+-N：NO3--N=1：2的根冠比。遮光处理下,NH4：NO3=2：1处理的高羊茅地上生物量显著高于NH4+-N：NO3--N=1：2处理(P<；0.05),而不同NH4+-N：NO3--N比对株高、分蘖作用不明显(P>；0.05)。6BA在NH4+-N：NO3--N3=2：1处理下地上生物量、地下生物量和叶绿素含量均显著高于NH4+-N：NO3--N=1：2处理(P<；0.05),本研究结果对工厂化生产草坪有很好的指导作用。

目录

摘要

ABSTRACT

第一章 综述

1.1 肥料在草坪中的应用

1.1.1 草坪草需肥特性

1.1.2 草坪施肥中的养分配比

1.1.3 施肥引起的环境间题

1.1.4 施肥对草坪色泽和盖度的影响

1.1.5 施肥对草坪草分孽和根系的影响

1.1.6 施肥与草坪的耐践踏性

1.1.7 施肥与草坪病害

1.2 植物生长调节剂在草坪中的应用

1.2.1 植物生长抑制剂对草坪草地上部分生长的影响

1.2.2 植物生长抑制剂对草坪草地下部分生长的影响

1.2.4 植物生长抑制剂对植物抗逆生理的影响

1.2.5 植物生长抑制剂对病虫害发生的影响

1.2.6 植物生长抑制剂降低草坪养护费用的作用

1.3 遮荫对草坪的影响

1.4 高羊茅的特性

1.5 研究目的和意义

1.6 研究的技术路线

第二章 不同光照强度和氮、钾肥浓度对高羊茅生长的影响

2.1 试验设计与方法

2.1.1 试验设计

2.1.2 测定指标及方法

2.1.3 数据分析

2.2 结果与分析

2.2.1 不同光照强度下氮和钾营养元素对高羊茅生长的影响

2.2.2 不同光照强度下，氮和钾营养元素对高羊茅地下生物量的影响

2.2.3 不同光照强度下，氮和钾营养元素对高羊茅地上生物量的影响

2.2.4 不同光照强度下，N和K营养元素对高羊茅叶宽、分蘖和叶绿素含量的影响

2.2.5 不同光照强度下，N和K营养元素对高羊茅株高的影响

2.2.6 不同光照强度下，N和K营养元素对高羊茅生长影响的综合比较

2.3 讨论

第三章 缩节胺、烯效唑及多效唑对高羊茅生长的影响

3.1 试验方法与设计

3.1.1 试验方法

3.1.2 测定指标及方法

3.1.3 数据分析

3.2 结果与分析

3.2.1 多效唑、烯效唑和缩节胺单因素处理对高羊茅生长的影响

3.2.2 多效唑、烯效唑和缩节胺组合处理对高羊茅生长的影响

3.2.3 多效唑、烯效唑和缩节胺组合处理对高羊茅地上生物量的影响

3.2.4 多效唑、烯效唑、缩节胺组合处理对高羊茅地下生物量的影响

3.2.5 多效唑、烯效唑和缩节胺组合处理对高羊茅株高的影响

3.2.6 多效唑、烯效唑和缩节胺组合处理对高羊茅分蘖的影响

3.2.7 多效唑、烯效唑、缩节胺组合处理对高羊茅叶宽和叶绿素含量的影响

3.2.8 多效唑、烯效唑和缩节胺适宜组合的确定及其效果

3.3 讨论

第四章 不同光照强度、生长调节剂和氮形态对高羊茅生长的影响

4.1 试验设计与方法

4.1.1 试验设计

4.1.2 测定指标及方法

4.1.3 数据分析

4.2 结果与分析

4.3 讨论

第五章 结论

参考文献

致谢

攻读硕士学位期间已发表或以录用的论文和专利