摘要
Abstract
1 绪论
1.1 引言
1.2 表面抛光技术
1.2.1 机械抛光
1.2.2 化学抛光
1.2.3 电化学抛光
1.3 电化学抛光的发展及影响因素
1.3.1 电化学抛光的起源与发展
1.3.2 电化学抛光的原理
1.3.3 影响电化学抛光的主要因素
1.4 铝、铜电化学抛光的常用方法
1.4.1 铝电化学抛光的常用方法
1.4.2 铜电化学抛光的常用方法
1.5 研究的目的意义和主要研究内容
2 实验过程及研究方法
2.1 试验材料及设备
2.1.1 试验主要试剂
2.1.2 试验设备
2.2 电化学抛光实验步骤
2.3 试验设计与试验方案
2.3.1 基础抛光液的选择
2.3.2 添加剂初选试验
2.3.3 正交试验设计
2.4 电化学抛光质量的测试
2.4.1 抛光后的损失与消耗测试
2.4.2 成分及表面形貌分析
2.4.3 显微硬度测试
2.4.4 耐腐蚀性测试
2.4.5 表面粗糙度检测
2.4.6 表面光泽度检测
2.5 试验技术路线图
3 铝、铜电化学抛光液成分研究
3.1 基础抛光液的成分确定
3.1.1 铝的基础抛光液的确定
3.1.2 铜的基础抛光液的确定
3.2 抛光液添加剂初选
3.2.1 铝的抛光液添加剂初选
3.2.2 铜的抛光液添加剂初选
3.3 复合添加剂正交试验
3.3.1 铝抛光液复合添加剂正交试验
3.3.2 铜的抛光液复合添加剂正交试验
3.4 本章小结
4 电化学抛光工艺的影响因素讨论
4.1 添加剂成分的影响
4.1.1 添加剂成分对铝电化学抛光的影响
4.1.2 添加剂成分对铜电化学抛光的影响
4.2 电流密度的影响
4.2.1 电流密度对铝电化学抛光的影响
4.2.2 电流密度对铜电化学抛光的影响
4.3 抛光温度的影响
4.3.1 抛光温度对铝电化学抛光的影响
4.3.2 抛光温度对铜电化学抛光的影响
4.4 抛光时间的影响
4.4.1 抛光时间对铝抛光效果的影响
4.4.2 抛光时间对铜抛光效果的影响
4.5 搅拌的影响
4.6 本章小结
5 电化学抛光后试样的性能分析
5.1 SEM表面形貌分析
5.1.1 铝抛光表面形貌分析
5.1.2 铜抛光表面形貌分析
5.2 EDS能谱分析
5.3 显微硬度分析
5.4 耐腐蚀性测试
5.5 本章小结
6 结论
致谢
参考文献
附录:作者在硕士论文期间发表的论文