多孔硅的形成及其镶嵌激光染料的光谱研究

摘要

该文第一章从孔硅的发展史、形成机理、微观结构、光学性质、发光机理和应用前景等方面对已有的工作进行总结,在此基础上,第二章首先研究了多孔硅的制备过程,接着又分析了电解液成分、电流密度等制备参数在样品形成过程中的作用,从而优化了样品的制备条件.最后,研究了多孔硅的光致发光.第三章研究了多孔硅镶嵌激光染料的光谱,指出多孔硅表面具有良好的光学敏感性.

目录

文摘

英文文摘

第一章多孔硅研究综述

§1.1形成机理

§1.2微观结构

§1.3光学性质

§1.4发光机制

§1.5应用前景

第二章多孔硅的形成

§2.1制备过程

2.1.1样品池

2.1.2样品的制备

2.1.3形成机制

§2.2影响多孔硅形成的因素

§2.3多孔硅形成初期的电流—电压特性

§2.4多孔硅的光电化学性质

§2.5多孔硅的光致发光

2.5.1光致发光的原理

2.5.2多孔硅的光致发光

§2.6小结

第三章多孔硅镶嵌激光染料的光谱研究

§3.1引言

§3.2多孔硅/激光染料复合体的发光

3.2.1复合体的发光光谱

3.2.2多孔硅荧光淬灭的产生

3.2.3染料分子的荧光增强效应的产生

3.2.4能量转移效应

§3.3小结

参考文献

发表的论文及会议交流论文

致谢