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摘 要
Abstract
第1章 绪论
1.1 研究背景
1.2 半导体光催化剂及光催化机理
1.2.1 半导体光催化剂
1.2.2 光催化机理
1.3 光催化性能的影响因素
1.3.1 光催化剂的能带位置
1.3.2 光催化剂的晶体结构
1.3.3 光催化剂暴露晶面种类
1.3.4 光催化剂晶体的尺寸
1.3.5 半导体光催化剂的微观形貌
1.4 铋系光催化剂的研究进展
1.4.1 一元金属铋系化合物
1.4.2 二元金属铋系化合物
1.4.3 卤氧化铋系化合物
1.5 钒酸铋光催化剂的研究进展
1.5.1 钒酸铋及其合成方法
1.5.2 钒酸铋的改性研究
1.6 选题意义与内容
第2章 实验部分
2.1 实验药品和仪器
2.1.1 实验试剂和药品
2.1.2 实验仪器
2.1.3 产物的制备
2.2 样品的表征
2.2.1 X射线衍射（XRD）
2.2.2 扫描电子显微镜（SEM）
2.2.3 透射电子显微镜（TEM）
2.2.4 X射线光电子能谱（XPS）
2.2.5 紫外可见漫反射光谱（UV-vis-DRS）
2.2.6 N2吸附-脱附
2.3 样品的光催化性能测试
2.4 罗丹明B（RhB）的测定
第3章 一种纺锤形BiVO4的微波合成及其光催化性能
3.1 引言
3.2 BiVO4的制备
3.3 结果与讨论
3.3.1 XRD谱图分析
3.3.2 SEM和TEM分析
3.3.3 X-射线能谱(EDS)分析
3.3.4 X-射线光电子能谱(XPS)分析
3.3.5 UV-VIS漫反射光谱（DRS）
3.3.6 光催化降解性能
3.3.7 重复使用性能
3.3.8 光致发光光谱（PL）分析
3.3.9 光催化机理
3.4 本章小结
第4章 核壳结构的BiVO4/Bi2O3@SiO2的微波合成及其光催化性能
4.1 引言
4.2 BiVO4-Bi2O3-SiO2的制备
4.3 结果与讨论
4.3.1 XRD谱图分析
4.3.2 SEM和TEM分析
4.3.3 X-射线光电子能谱(XPS)分析
4.3.4 BET比表面积
4.3.5 UV-VIS漫反射光谱（DRS）
4.3.6 光催化降解性能
4.3.7 光催化剂的可重复利用性
4.3.8 光致发光光谱（PL）分析
4.3.9光催化机理
4.4本章小结
结 论
参考文献
攻读学位期间发表的学术论文目录
致 谢
