声明
引言
1 绪论
1.1 研究背景
1.2.1 半导体光催化的发展
1.2.2 半导体光催化剂降解有机污染物的反应机理
1.3.1 铋基氧化物纳米材料的结构
1.3.2 铋基纳米材料的制备
1.3.3 铋基纳米材料的光催化应用
1.3.4提高光催化活性的策略
1.4.1 研究意义
1.4.2 研究内容
2实验部分
2.1.1化学试剂
2.1.2实验仪器
2.2 材料的表征方法
2.1.1 X射线粉末衍射（XRD）
2.1.2 扫描电子显微镜（SEM）
2.1.3 透射电子显微镜（TEM）
2.1.4 傅立叶红外光谱（FT-IR）
2.1.5 X射线光电子能谱（XPS）
2.1.6 N2物理-脱附吸附测试
2.1.7紫外-可见漫反射吸收光谱（UV-vis DRS）
2.1.8 荧光光谱（PL）
2.1.9 光电流
3.1 引言
3.2 样品制备
3.3 结果与讨论
3.3.1 X射线粉末衍射
3.3.2 扫描电子显微镜
3.3.3 透射电子显微镜
3.3.4 X射线光电子能谱
3.3.5 比表面和孔径分布
3.3.6 紫外-可见吸收光谱
3.3.7 交流阻抗
3.3.8 催化还原4-NP测试
3.3.9 光催化性能分析
3.4 本章小结
4.1 引言
4.2 样品制备
4.3 结果与讨论
4.3.1 X射线粉末衍射
4.3.2 扫描电子显微镜
4.3.3 透射电子显微镜
4.3.4 X射线光电子能谱
4.3.5 提出异质结的生长过程
4.3.6 比表面和孔径分布
4.3.7 紫外-可见吸收光谱
4.3.8 光致发光谱
4.3.9 光电流
4.3.10 莫特-肖特基
4.3.11 光催化性能分析
4.4 光催化机理研究
4.5 本章小结
5.1 引言
5.2 样品制备
5.3 结果与讨论
5.3.1 X射线粉末衍射（XRD）
5.3.2 扫描电子显微镜 （SEM）
5.3.3 透射电子显微镜 （TEM）
5.3.4紫外-可见吸收光谱（UV-vis DRS）
5.3.5 光催化性能测试
5.3.6光催化活性物种测试
5.4 本章小结
6.1 结论
6.2 展望
参考文献
附录
致谢
