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目录
1 绪论:从等离子体到薄膜材料沉积
1.1 物理溅射沉积
1.1.1薄膜生长的结构区域模型
1.1.2等离子体放电类型
1.1.3帕邢定律
1.1.4固体表面的离子轰击效应
1.2 E×B 放电等离子体动力学
1.2.1溅射放电装置
1.2.2电势峰
1.2.3等离子体局域化:电离辐
1.2.4电流陡增效应
1.2.5自溅射效应和气体析出效应
1.3 吸气材料
1.3.1吸气材料的工作原理
1.3.2吸气材料的选择
1.3.3吸气材料的应用:粒子加速器
1.4 本文研究目的
2 磁控溅射等离子体动力学
2.1 研究背景
2.2 实验装置和实验方法
2.2.1放电系统
2.2.2帧成像
2.2.3条纹成像
2.2.4粒子质量能量分析
2.2.5悬浮电位探针
2.3 结果与讨论
2.3.1高功率脉冲磁控溅射(高电流密度)
2.3.2脉冲磁控溅射(中等电流密度)
2.3.3直流和脉冲磁控溅射(低电流密度)
2.4 第二章总结
3 在极细管状腔内沉积非蒸发吸气材料
3.1 研究背景
3.2 实验装置与实验方法
3.2.1沉积装置
3.2.2扫描电子显微镜
3.2.3能量色散X射线光谱仪
3.2.4卢瑟福背散射仪和粒子激发X射线荧光分析仪
3.3 绞线阴极和合金阴极沉积的比较
3.3.1绞线阴极沉积的实验结果与讨论
3.3.2合金线阴极沉积的实验结果与讨论
3.3.3卢瑟福背散射分析的准确性讨论
3.4 第三章总结
4 全文总结与展望
4.1 全文总结
4.2 研究亮点
4.3 研究展望
致谢
参考文献
附录 1 攻读博士学位期间发表论文、参会和获奖情况