钛合金表面高温高发射率膜层的制备及剪切性能研究
PREPARATION AND SHEERING PROPERTIES OF HIGH THERMAL EMISSION COATINGS ON TI ALLOY
摘 要
Abstract
目 录
第1章 绪 论
1.1 课题背景和研究意义
1.2 高发射率膜层的制备方法及研究现状
1.3 高发射率膜层的影响因素
1.4 微弧氧化技术
1.5 主要研究内容
第2章 试验材料及研究方法
2.1 实验材料
2.2 实验装置及工艺
2.3 测试方法
2.4 微弧氧化膜层组织结构分析方法
第3章 微弧氧化陶瓷膜层组织结构与剪切性能
3.1 主盐体系的选择
3.2 磷酸盐主盐体系最佳浓度的选择
3.3 磷酸盐-添加剂电解液体系陶瓷膜层的结构与剪切性能
3.4 磷酸盐-硅酸盐-添加剂电解液体系陶瓷膜层的形貌研究
3.5 本章小结
第4章 微弧氧化陶瓷膜层辐射性能研究
4.1 主盐体系膜层发射率分析
4.2 磷酸盐-氟锆酸钾体系膜层发射率分析
4.3 碳化硅浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响
4.4 硫酸亚铁浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响
4.5 乙酸镍浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响
4.6 乙酸钴浓度及处理参数对磷酸盐体系膜层发射率的影响
4.7 磷酸盐-硅酸盐-乙酸铜体系膜层发射率分析
4.8 磷酸盐-硅酸盐-硫酸亚铁体系膜层发射率分析
4.9 磷酸盐-硅酸盐-乙酸镍体系膜层发射率分析
4.10 磷酸盐-硅酸盐-乙酸钴体系膜层发射率分析
4.11 本章小结
结 论
参考文献
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致 谢