Polymer Program at the Institute of Materials Science Department of Chemistry University of Connecticut, Storrs, CT 06268, USA;
机译:用于下一代光刻的纳米复合抗蚀剂系统
机译:电子束光刻中潜酸图像的分辨率模糊和化学放大抗蚀剂的产酸效率
机译:使用电子束光刻技术,使用环氧酚醛清漆SU-8 2000抗蚀剂产生高分辨率图案
机译:下一代光刻的高分辨率抗蚀剂:纳米复合材料方法
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:三态光刻模型:增强的数学方法来预测灰度光刻过程中的抗蚀剂特性
机译:具有负性有机和无机抗蚀剂的高分辨率电子束光刻