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Nanometer-scale investigation of Al-based alloy films for thin-film transistor liquid crystal display arrays

机译：用于薄膜晶体管液晶显示器阵列的铝基合金膜的纳米级研究

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Annealing effects on Al-Nd(0.19 - 1.82 at.

机译：退火对Al-Nd（0.19-1.82 at。

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来源
《Symposium on Flat Panel Display Materials III March 31-April 3,1997, San Francisco, California, U.S.A》|1997年|p.99-104|共6页
会议地点 San Francisco CA(US)
作者
H.Takatsuji; Hideo Liyori; S.Tsuji; K.Tsujimoto; K.Kuroda; H.Saka;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类一般工业技术;
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