Research Development Center, Sumitomo Heavy Industries, Ltd., 5-2 Soubiraki-cho, Niihama, Ehime 792-8588, Japan;
机译:反应性低压离子镀(RLVIP)技术沉积的氧化铟锡(ITO)透明导电膜
机译:反应性低压离子镀(RLYIP)技术沉积的氧化铟锡(ITO)透明导电膜
机译:喷雾通量密度和真空退火对使用简化喷雾技术沉积的双掺杂(Sn + F)氧化锌薄膜的透明导电性能的影响
机译:由新型离子电镀技术沉积的高质量透明导电膜
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:易于加工高度透明并进行硫醇官能化的氧化石墨烯氧化物Langmuir-Blodgett薄膜
机译:Al和Ga共掺杂氧化锌透明导电膜的晶体取向和电性能沉积在蓝宝石表面上