National Institute for Laser, Plasma Radiation Physics, P.O. Box MG-36, R-76900, Bucharest, Romania;
机译:沉积参数对非晶碳和脉冲碳沉积生长的非晶碳膜结构,光学和电学性能的影响
机译:脉冲激光沉积(PLD)生长的Ba0.5Sr0.5Co0.8Fe0.2O3-δ薄膜的参数和微观结构性能的优化
机译:生长参数对通过低压化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的六方氮化硼薄膜成膜的影响
机译:用纳秒脉冲通过PLD在Si(100)上生长的硼氮化物膜上的沉积参数的影响
机译:通过脉冲激光沉积的超薄氮化硼膜:等离子体诊断,合成和器件传输
机译:纳秒和飞秒脉冲激光沉积法生长和表征Cu(InGa)Se2薄膜
机译:通过脉冲激光沉积(PLD)生长的Ba0.5SR0.5Co0.8Fe0.2O3-δ薄膜的参数和微观结构性能的优化
机译:离子辅助脉冲激光沉积法制备立方氮化硼薄膜的成核与生长