Department of Materials Engineering and Industrial Technologies, University of Trento, Via Mesiano 77, 38123 Trento, Italy;
Department of Materials Engineering and Industrial Technologies, University of Trento, Via Mesiano 77, 38123 Trento, Italy;
ELETTRA Sincrotrone Trieste, SS14, km 163.5, 34149 Basovizza, Trieste, Italy;
Department of Materials Engineering and Industrial Technologies, University of Trento, Via Mesiano 77, 38123 Trento, Italy;
X-ray diffraction; residual stress; texture analysis; synchrotron radiation; thin films;
机译:ELETTRA的MCX同步加速器辐射束线处的薄膜应力和纹理分析
机译:MCX:用于X射线衍射线轮廓分析的同步辐射束线
机译:热处理导致X射线和同步加速器辐射改变SiO2 / Cu / TiN薄膜内部应力的变化
机译:使用同步加速器X射线衍射测定的Cu薄膜中(111)和(100)织构成分的早期屈服和应力恢复
机译:并五苯薄膜的电子性能:同步辐射和角度分辨光发射研究。
机译:高效的自旋极化分析(VESPA):基于Elettra的APE-NFFA光束线的自旋分辨ARPES的基于交换散射的新设置
机译:紧凑,轻巧的溅射装置,用于在同步加速器辐射束线处原位研究薄膜生长
机译:用同步辐射辐照凝聚的分子前体生长介电薄膜。