Large Scale PECVD Systems for Low Temperature Polysilicon Based Display Applications

机译：用于低温多晶硅显示应用的大规模PECVD系统

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LTPS (especially OLED) needs better uniformity in both film thickness and film properties for PECVD deposition. The AKT-20KPX PECVD systems can deposit a range of single-layer or in-situ multi-layer films of amorphous silicon (a-Si), silicon nitride (SiNx), SiH4 based and TEOS based silicon oxide (SiOx). The Hollow Cathode Gradient (HCG) diffuser technology equalizes plasma density distribution across the entire large-area substrate, enabling less than 5% variation in film thickness and excellent film property uniformity. This technology also allows for higher deposition rate films and high gas utilization.

机译：LTPS（尤其是OLED）在PECVD沉积的膜厚和膜性能方面都需要更好的均匀性。 AKT-20KPX PECVD系统可以沉积非晶硅（a-Si），氮化硅（SiNx），SiH4基和TEOS基氧化硅（SiOx）的一系列单层或原位多层膜。空心阴极梯度（HCG）扩散器技术可均衡整个大面积基板上的等离子体密度分布，使膜厚变化小于5％，并具有出色的膜性能均匀性。该技术还可以实现更高的沉积速率薄膜和更高的气体利用率。

著录项

来源
《Proceedings of China display / Asia display 2011》|2011年|56-57|共2页
会议地点 Kunshan(CN)
作者
Qunhua Wang; John White; Weijie Wang; Young Jin Choi; Beom Soo Park; Gaku Furuta; Soo Young Choi; Robin Tiner; Suhail Anwar; Shinichi Kurita;
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作者单位

AKT Display CVD, Applied Materials 3101 Scott Boulevard, M/S 9106 PO Box 58039 Santa Clara, CA 95054;

AKT Display CVD, Applied Materials 3101 Scott Boulevard, M/S 9106 PO Box 58039 Santa Clara, CA 95054;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类显示设备、显示器;
关键词
PECVD; LTPS; OLED; a-Si precursor; gate insulator; ILD; amorphous silicon; silicon oxide; silicon nitride; TEOS oxide;

机译：PECVD; LTPS; OLED;非晶硅前体栅极绝缘体ILD；非晶硅氧化硅氮化硅TEOS氧化物;

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