Institute of Jiangsu (WO) FPD Technology Research,Info Vision Optoelectronics (Kunshan) Co, Ltd,No.1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu 215301, China;
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interface reaction; ITO; SiNx; PECVD;
机译:PECVD SiNx / SiOyNx-Si界面性能对硅晶片表面钝化的影响
机译:湿法化学氧化硅上的PECVD-AlOx / SiNx钝化叠层:电荷动力学和界面缺陷状态的恒压应力研究
机译:来自SINX薄膜的白色电致发光通过使用二氯硅烷前体的PECVD设备和发射机构研究
机译:硅太阳能电池全PECVD合成ALOX / SINX钝化层的界面问题
机译:异马拉硫磷对丝氨酸水解酶的立体选择性灭活:(1R)-和(1S)-异构体的抑制反应通过不同的机理进行。
机译:生物材料的细胞-底物生物分子界面的化学计量外反应:原位和异位监测细胞的增殖分化和骨组织形成
机译:硅上的PECVD-AlOx / SiNx钝化叠层:有效的电荷动力学和界面缺陷状态光谱