Lianghong Yan, Xiaodong Yuan;
Lianghong Yan, Xiaodong Yuan;
Lianghong Yan, Xiaodong Yuan;
Research Center of Laser Fusion, CAEP, Mianyang, P. R. China;
Fused silica; surface defect; wet chemical etching; morphological evolution; finite-difference time-domain simulation;
机译:离子束蚀刻对熔融石英光学表面/地下结构缺陷演化的影响
机译:结合反应离子刻蚀和动态化学刻蚀以提高熔融石英光学表面的耐激光损伤性
机译:用烃类液体激光诱导熔融石英背面湿蚀刻的模拟
机译:湿化学蚀刻期间熔融二氧化硅表面缺陷的演变的仿真
机译:具有表面电荷的高纵横比结构的湿法蚀刻COMSOL多发性模拟
机译:离子束刻蚀对熔融石英纳米损伤前体演化的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响