机译:高致密0.0lPb(Mg_(1/2)W_(1/2))O_3-0.41Pb(Ni_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.35PbTiO_3-0.23PbZrO_3的压电特性+ 0.1 wt%氧化铝基板上的Y_2O_3 + I.5 wt%ZnO厚膜
机译:压电设备用氧化铝基板上的厚膜
机译:通过溅射法及其铁电和压电性能制备(111)Pt / TiO_X / SiO_2 /(001)Si基板上的1μm厚Y掺杂的HFO_2铁电薄膜
机译:氧化铝基材厚压电薄膜的制备与表征
机译:原子清洁的氮化镓(0001)和氮化铝(0001)薄膜的制备,表征以及通过碘汽相生长沉积厚的氮化镓薄膜。
机译:用于在无线传感器节点中制造电源的压电和磁电厚膜
机译:99.6%微波用厚膜和薄膜的实验和理论表征氧化铝基材
机译:在具有纹理化缓冲层的柔性Ni基合金基底上制备高质量YBa2Cu3O(7-δ)厚膜