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Photoelectric and dielectric spectroscopy study of PZT thin film electronic structure

机译:PZT薄膜电子结构的光电和介电谱研究

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摘要

Electronic structure of ferroelectric thin films, characterized by electric potential and conductivity distribution through the film thickness, and the presence and the location of trap levels in a band gap influences appreciably the exploiting parameters and reliability of various ferroelectric thin-film devices including capacitors, piezo-, pyro-, electro- and acusto-optic- devices, memories etc. [1].
机译:铁电薄膜的电子结构,其特征在于整个薄膜厚度的电势和电导率分布以及带隙中陷阱能级的存在和位置,对包括电容器,压电体在内的各种铁电薄膜器件的开发参数和可靠性产生明显影响。 -,热释电,电光和非声光设备,存储器等[1]。

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